南韓半導體大廠SK海力士（SK hynix）傳出降低半導體不良率的核心技術，遭中國籍前員工盜取，外流給中國華為公司。目前這名中國籍前員工已遭逮捕，正在接受審判。

韓聯社報導，南韓警方28日證實，1名30多歲的中國籍女性因涉嫌違反《防止產業技術外流及保護產業技術法》，4月底入境南韓時被警方逮捕，隨後遭檢方起訴，目前正在接受法院審判。

根據報導，這名中國籍女性從2013年開始在SK海力士工作，任職於分析半導體設計缺陷的部分，並於2020年至2022年期間，赴中國分公司擔任主管，負責處理當地企業客戶的諮詢。2022年6月，該女返回南韓後，隨即辭職跳槽到華為。

SK海力士指控，該女在離職前，影印超過3千張A4紙的資料，內容涉及在半導體製造過程中降低不良率的核心技術。為防止技術外流和確保資訊安全，SK海力士禁止員工使用USB等儲存設備，也會詳細記錄公司印表機的列印內容、列印人及文件用途等資訊。該女留下列印文件的記錄，卻未說明用途。

南韓警方獲報後便展開調查，並於4月在機場逮捕這名中國籍女性。警方認為，她將列印的資料分批帶出公司，並外流給華為等外部人士。不過，該女對此全盤否認，堅稱自己沒有洩露技術的意圖。